MARZO Serie AP Batch

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Panoramica

I sistemi di trattamento al plasma della serie AP sono adatti per un'ampia gamma di applicazioni, tra cui la pulizia al plasma, l'attivazione della superficie e il miglioramento dell'adesione. Questi sistemi servono settori come la produzione di semiconduttori, l’imballaggio e l’assemblaggio di microelettronica e la produzione di apparecchiature mediche e per le scienze della vita. La serie AP comprende quattro sistemi di lavorazione al plasma in batch, offrendo opzioni di camere a vuoto di piccole, medie e grandi dimensioni per soddisfare le esigenze dei clienti che vanno dagli ambienti di ricerca e sviluppo a vari livelli di produzione.

Caratteristiche e vantaggi dei sistemi di trattamento al plasma

● Il controller PLC con interfaccia touchscreen fornisce un display grafico intuitivo e un monitoraggio del processo in tempo reale

● Il design flessibile dello scaffale consente la lavorazione di vari portapezzi in modalità plasma diretta oa valle

● Il generatore RF da 13,56 MHz con adattamento automatico dell'impedenza garantisce una riproducibilità del processo senza pari

● Il sistema di controllo software proprietario genera dati di processo e di produzione per il controllo statistico del processo (SPC)

● Funzionamento in stile batch; ogni unità è completamente autonoma e richiede uno spazio minimo

● La pompa, la camera, l'elettronica di controllo e il generatore RF da 13,56 MHz sono tutti alloggiati in un unico involucro

Modelli e configurazioni del sistema di trattamento al plasma

Sistemi di trattamento al plasma da banco AP-600 e AP-300:I sistemi di trattamento al plasma AP-300 e AP-600 sono unità da banco completamente autonome e richiedono uno spazio minimo sul banco di lavoro. Il telaio del sistema ospita la camera al plasma, l'elettronica di controllo, un generatore RF da 13,56 MHz e una rete di adattamento automatico della camera (solo la pompa a vuoto è posizionata esternamente). L'accesso per la manutenzione è fornito tramite porte interbloccate o pannelli rimovibili. La camera al plasma supporta fino a sette ripiani alimentati o messi a terra rimovibili e regolabili per ospitare varie parti, assiemi e supporti, inclusi caricatori, vassoi e contenitori per wafer. Il sistema di lavorazione del plasma sotto vuoto è compatibile con un'ampia gamma di gas di processo, tra cui argon, ossigeno, idrogeno, elio e gas fluorurati. Entrambi i modelli sono dotati di serie di due (2) regolatori di flusso di massa per un controllo ottimale del gas, con due (2) unità aggiuntive disponibili come opzioni (fino a quattro in totale). I comodi collegamenti alle utenze facilitano la calibrazione periodica richiesta durante i processi di convalida.

Sistema di trattamento al plasma AP-1000:La piattaforma AP-1000 consente l'accesso frontale completo, facilitando il funzionamento e la manutenzione di tutti i componenti interni. La pompa è montata su rotelle per una facile rimozione. La camera al plasma è costruita in acciaio inossidabile calibro 11 con dispositivi in ​​alluminio, garantendo una durata eccezionale. La camera è dotata di ripiani multipli rimovibili e regolabili per ospitare una varietà di contenitori per componenti, tra cui riviste, vassoi, wafer e contenitori per wafer. Dotato di ripiani HTP (High Throughput) opzionali, il sistema di lavorazione al plasma AP-1000 combina l'affidabilità e la qualità del processo della piattaforma AP-1000 con i vantaggi comprovati dell'esclusivo design dei ripiani di Nordson MARCH. L'AP-1000 HTP ottimizza l'uso degli ioni reattivi all'interno del plasma RF, migliorando l'uniformità di elaborazione e riducendo i tempi di ciclo. Il sistema AP-1000 HTP supporta una gamma di gas di processo, come argon, idrogeno ed elio. Viene fornito di serie con quattro controllori del flusso di massa del gas per garantire un controllo ottimale del gas. I caricatori scanalati sono posizionati verticalmente all'interno della camera.

Inoltre, i caricatori fessurati possono essere posizionati verticalmente all'interno della camera. Tipicamente, ogni caricatore contiene almeno 20 lead frame. La camera al plasma AP-1000 può ospitare fino a 12 caricatori, a seconda delle dimensioni del caricatore.